尽管博浪在国内的宣传比较简单，只是一些简报和官网信息更新，但好事者发觉后依旧引发了热议。

无数卧槽刷屏网络空间。

哪怕网友们已经越来越习惯博浪的大手笔，哪怕对博浪最近的动静已经有所准备，网友们仍然被惊到了。

因为从去年星海1横空出世，在芯片上表现十分出色以来，国内各种自媒体没少营销晶圆厂、光刻机等等。

里面间或有一些海外来客或者湾湾来客带节奏。

所以，国内网友忽然对这一个遥远的工业领域非常关注，并各个专业了。

有关话题下面，动不动甩出DUV、EUV这种英文缩写，要么就甩中文‘深紫外极紫外’。

再有就是甩出ASML、台积电，nm、Arf、浸入式、干式。

也会甩一点相对更装逼的东西，如工艺制程的排序标准，提到从11年开始兴起的新型晶体管结构FinFET(鳍式场效应晶体管)以来，工艺制程的nm数值开始笼统的以上代工艺×0.7得出。

提到现在吵得热热闹闹的20nm不过是28nm乘以0.7得来，而晶体管的最小间距并未缩小那么多。

事实上从FinFET技术兴起之后，各类工艺制程标准逐渐以商业营销导向为基础再加上单位面积晶体管数来定义。

最典型的例子就是英特尔的14nm+++从单位面积晶体管数、基础尺寸等角度来看，跟台积电、三星的7nm差距非常微小。

因为FinFET这种晶体管结构属于3D化，最小间距的减少开始变得很缓慢，而3D化后晶体管数量仍然在激增，厂商如果单纯沿用原有的摩尔定律缩小一半为工艺升级则显现不出技术进步，于是以一种假设的二维尺寸缩小一半来定义，然后命名规则逐渐厂商化。

所以所谓摩尔定律会死一说，比较难。

哪怕是后来宣传的3nm、2nm工艺，仍然只是5×0.7等于3.5≈3nm，3×0.7等于2.1≈2nm来命名。

实际上台积电在7nm时期最小金属间距是40nm，5nm时期大概是36nm，3nm预计是30~32nm这样子，距离1nm的物理极限还有不小的空间。

反正厂商营销需要，与实际的科研极限是存在一些差距的。

综上。

在这样的背景下，星空半导体的官宣信息更新让国内网络也跟着热闹了起来，各种谈论都有。

“博浪真是不动则已啊，动起来都是大事情，直接就上全国产设备生产线了，800亿那么多，好哈人。”

“关键是这个星空半导体不缺用户啊，以他们这个产能，一年才1.2亿片芯片，供应星海系列都不够！”

“是啊是啊，现在星海有手机、平板，不出意外的话今年一定会出电脑，再加上那个星河芯片，产能起码要再扩大三四倍才够自用，好牛。”

“不过只是45nm，是不是有点落后了……不对，难怪神龙M1是40nm工艺，跟这里等着呢！”

“据说海外已经吵翻天了，有海外网友认为星空半导体这是在挑衅那个什么什么协定，阿美莉卡肯定会加大管束的，光刻机可是最尖端的禁运设备。”

比起国内无推波助澜的热议，海外网络确实吵翻天了。

因为那边主要地区阿美莉卡等都是晚上。

而且range、xiaochengshu、推特等平台带节奏的自媒体太多了，把博浪想要挑衅的味道渲染到了一个顶峰。

好像下一秒，被管束限制的博浪就会立即突破封锁，吊打硅谷，再创世界。

博浪在海外网络的核心图谋可不仅仅只是商业目的，还有别的目的，以制造各种舆论冲突最终达到一定程度的洗脑为主。

所以，自然不考虑过犹不及一点。

那边的讨论更疯狂。

毕竟有海量的海外网友，各种各样的出发点，还包括湾湾那帮带节奏的在不断从对立面谈论，形态愈来愈激烈。

…………

30号，周二。

上午，身为星空半导体代理CEO的赵智依照各方面安排进行了一些有目的的公开事务。

配合了那台可支撑45nm工艺制程的国产光刻机正式进驻星空半导体一期工厂来宣传。

无数被通知和知情媒体齐聚现场。

闪光灯连成一片片。

更是有一些媒体有意的开启了现场网络直播。

“观众朋友们大家好，现在我们正在江夏星空半导体总部，一同见证星空半导体全国产设备生产线最后一台核心设备入驻厂房。”

“它就是由我国自主生产，具有自主知识产权的SSSArF 900/45DUV 型IC前道制造步进扫描投影光刻机。”

“根据装备说明，目前该型光刻机可制备200mm或300mm晶圆，即适配8寸或12寸晶圆生产线，可完成45nm光刻工艺制程成片制造，至多可经多次曝光完成14nm光刻工艺制程成片制造。”

“除了该型IC前道制造光刻机外，目前星空半导体一期工厂已经进驻的其它大型制造设备，如刻蚀机、后道封装光刻机、清洗机等全都是国产设备。”

“……”

基本是新闻介绍口径。

重点突出，非重点春秋笔法带过，比如只字未提这条生产线被定位成了试验线，更没提光刻机是实验机，与商用机是两回事。

从进入这间厂房之后的很长一段时间里，这台光刻机都无法带来稳定的产出，反而需要耗费海量的资源、资金去调试以优化更新迭代。

去解决诸如每小时晶圆生产数、稳定性、精准度、乃至能耗等方面的问题。

以适配大规模生产所需。

毕竟任何工业设备的商用都涉及到了连续稳定运行时长等等基础参数，而实验室产品不一定考虑了那么多基础参数，所以……

总之，能在现场进行线上直播的媒体，都是有任务需求的。

而且主用范围是海外市场，讲究更多。

不会出什么幺蛾子。

在热闹之后，赵智和田文凯两人也主动接受了现场媒体的现场访谈。

记者A：“赵总，昨天有官方消息称贵司与江夏地方达成了投资协议，江夏地方拟定投资800亿，用于扩大贵司发展规模，具体有哪些方面跟大家介绍一下。”

赵智边听边作点头状，然后回答道：“事实上，因为我们是行业新兵的缘故，所以一二期工程产能规划不高，这还是因为有华虹华力微的共同参与建设。”

“如今一期工程即将完工收尾试运营，我们已初步积累了经验，考虑到晶圆生产市场的巨大需求，包括我司所属博浪集团的自身需求，我们已经初步规划了三四期工程，初步规划月产能至少达10万片。”

记者B：“田总，贵司官方消息称目前在建产线为全国产设备，适应制造工艺为45nm级别，似乎难以满足市场最先进需求，可否为我们解释一下。”

田文凯不慌忙的回道：“事实上我们的生产线设备中大多具备可升级条件，甚至部分设备本就适应更先进制程，而关键设备光刻机亦具备可升级条件，目前我们已有初步升级方案，预计将在明年正式投产之前完成产线升级，支撑28~20nm工艺，这将节约大量的时间成本。”

记者C：“赵总可否详细说说三四期工程规划，有消息称目前全球前沿先进工艺已经进入了EUV光刻。”

赵智：“事实上我们的四期工程就是适应EUV极紫外光刻制备工艺的，而且我们在EUV光刻生产流程制造设备包括EUV光刻机等以及使用材料上都有研发投入；

也包括一些战略投资；

其中我们正在极力促成七星电子与北方微电子的重组；

也包括我们战略投资了目前国内唯一一家没有外资背景的镜片工厂明月镜片，预计总投资额以货币价值算将多达300亿人民币，一期投资价值也已达20亿；

还包括战略投资上微电这家总成光刻机的厂商……